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                                                    半導(dǎo)體落戶上海張江科技園區(qū)

       時(shí)，他又補(bǔ)充道，地處上海張江科技園區(qū)的盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司專注于集成電路制造產(chǎn)業(yè)中電鍍銅設(shè)備、拋銅設(shè)備、單晶圓清洗設(shè)備的研發(fā)及生產(chǎn)。迄今，acm公司已申請了100多項(xiàng)國際專利，其中60余項(xiàng)已獲批準(zhǔn)。

       此前，據(jù)公司創(chuàng)始人王暉透露，今年上半年公司已取得8500萬元的訂單，預(yù)計(jì)全年訂單總額將突破億元。

       2013年7月，該公司自主研發(fā)的ultrasaps12英寸8腔saps兆聲波單片清洗設(shè)備將出廠運(yùn)至sk海力士(無錫)。

       2013年5月，公司再次獲取上海晶盟硅材料和臺灣合晶集團(tuán)四臺單片清洗機(jī)訂單，標(biāo)志著盛美清洗設(shè)備成功進(jìn)入硅片清洗以及外延片清洗的量產(chǎn)客戶群。

       2012年1月，盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司宣布開發(fā)出十二英寸單片兆聲波清洗設(shè)備。

       2011年10月，公司將首臺ultrac™12英寸單片兆聲波清洗設(shè)備銷售給韓國存儲器制造巨頭。

       2010年10月，盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司自主研發(fā)的12英寸45納米單片清洗設(shè)備沖出國門，銷往韓國知名存儲器廠商。這是中國首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備，填補(bǔ)了國內(nèi)技術(shù)的空白。

       另外，公司sfp工藝副經(jīng)理賈照偉透露，公司近期已與美國的sematech達(dá)成聯(lián)合開發(fā)的協(xié)議，將一起開發(fā)sfp在tsv上新應(yīng)用，為客戶提供無應(yīng)力、低成本的工藝方案。未來，公司將重點(diǎn)發(fā)展先進(jìn)封裝領(lǐng)域相關(guān)濕法設(shè)備， 清洗設(shè)備，濕法去膠設(shè)備，濕法蝕刻設(shè)備，涂膠設(shè)備，顯影設(shè)備等產(chǎn)品。在長三角地區(qū)，公司看重的主要是集成電路，晶圓制造以及先進(jìn)封裝領(lǐng)域。

        后，賈照偉表示公司將以穩(wěn)定的裝備，先進(jìn)的工藝，優(yōu)異的客戶服務(wù)來開拓市場。

        第11屆中國國際半導(dǎo)體博覽會暨峰論壇是在工信部、科技部和上海市政府指導(dǎo)下，由中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會和中國電子器材總公司等主辦。中國國際半導(dǎo)體博覽會暨峰論壇經(jīng)過10年的發(fā)展，已成為國內(nèi)外具有一定影響力的半導(dǎo)體業(yè)界盛會。它為從事集成電路設(shè)計(jì)、芯片加工、封裝測試、半導(dǎo)體專用設(shè)備、半導(dǎo)體專用材料、半導(dǎo)體分立器件的海內(nèi)外廠商，企事業(yè)單位搭建了一個(gè)展示新成果，打造產(chǎn)品品牌的平臺。而且聚焦產(chǎn)業(yè)政策解讀，涵蓋“體制創(chuàng)新、模式創(chuàng)新、技術(shù)創(chuàng)新”等內(nèi)容的峰論壇和專題研討會，在業(yè)界有著極佳的口碑和知名度。

        附盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司ultra c saps兆聲波單片清洗設(shè)備和ultra sfp-tsv無應(yīng)力拋光設(shè)備資料：

                                                                        ultra c 003

       ultra c saps是盛美獨(dú)立開發(fā)，具有自主知識產(chǎn)權(quán)的兆聲波單片清洗設(shè)備。它主要有三部分組成：機(jī)械前端模塊，包括機(jī)械手、loadport等；液體供應(yīng)模塊，包括液體供給流量控制系統(tǒng)等；以及工藝加工模塊，包括清洗腔以及兆聲波能量發(fā)生器。具有極的顆粒去除效率，并且可以控制硅片表面的能量密度均勻的分布以去除“hot spots”，達(dá)到對器件的無損傷清洗。同時(shí)，所有的化學(xué)清洗液均可單獨(dú)回收循環(huán)利用。主要應(yīng)用于：集成電路工藝相關(guān)濕法清洗，濕法蝕刻工藝， 晶圓制造拋光后，外延前后清洗，先進(jìn)封裝領(lǐng)域（tsv）深孔清洗，濕法蝕刻，濕法去膠等。

                                                                     ultra sfp ii

        ultra sfp-tsv無應(yīng)力拋光樣機(jī)也是由盛美獨(dú)立開發(fā)，并擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，在2002年sfp無應(yīng)力拋光樣機(jī)就進(jìn)入了intel和lsi logic的產(chǎn)線進(jìn)行cu/low k工藝的驗(yàn)證。 本產(chǎn)品主要有三部分組成：機(jī)械前端模塊，包括機(jī)械手、loadport和aligner等；液體供應(yīng)模塊，包括液體供給流量控制系統(tǒng)等；以及工藝加工模塊，包括一個(gè)無應(yīng)力拋光腔以及一個(gè)清洗腔。采用電化學(xué)拋光原理可以對硅片表面的銅膜的進(jìn)行去除和減薄。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括：芯片加工的后端銅大馬士革工藝，cu/低k 低k以及cu/air gap工藝以及先進(jìn)封裝領(lǐng)域tsv技術(shù)中鍍銅以后銅膜減薄工藝等。